LDR 00881naa#a2200217#i#450#
001     EN\\bibl\91378
005     20250310210348.1
011 ## _a2658-6436
100 ## _a20241220b2024####ek#y0engy0150####ca
102 ## _aRU
200 1# _aINVESTIGATING THE REMOVAL RATE OF PYROGENIC SiO2  BY PLASMA CHEMICAL ETCHING
       _eJournal article
210 1# _aBryansk
       _cBryansk State Technical University
       _d2024
215 ## _a7 с.
608 ## _aJournal article
       _2local
675 ## _aВзаимодействие плазмы с поверхностью твердого тела. 533.924
       _aЭлектрические полупроводниковые приборы. 621.382.2/.3
       _z
700 #1 _aAdamov
       _gArtem Aleksandrovich
700 #1 _aGolovko
       _gAlina Sergeevna
700 #1 _aMalakhanov
       _gAlexey Alexeevich
700 #1 _aVasil'eva
       _gYuliya Olegovna
700 #1 _aPavlov
       _gAlexey Viktorovich
856 4# _abstu.editorum.ru
       _u